特許
J-GLOBAL ID：200903015155535701
シリコンコロイドの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 辰雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-291460
公開番号（公開出願番号）：特開平7-126005
出願日： 1993年10月28日
公開日（公表日）： 1995年05月16日
要約：
【要約】【目的】 バルクのシリコンと同等のシリコン薄膜が形成できるシリコンコロイドの製造方法を提供する。【構成】 水素の存在下でシリコンを蒸発させて得られるシリコン粒子と溶媒を接触させることを特徴とするシリコンコロイドの製造方法。
請求項（抜粋）：
水素の存在下でシリコンを蒸発させて得られるシリコン粒子を溶媒と接触させることを特徴とするシリコンコロイドの製造方法。
IPC (2件)：
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