特許

J-GLOBAL ID：200903015157197978

画像形成方法

発明者： 増田 敏幸
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (4件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-259702
公開番号（公開出願番号）：特開2004-101596
出願日： 2002年09月05日
公開日（公表日）： 2004年04月02日
要約：

【課題】本発明の目的は、転写方式による画像形成方法において、仮支持体剥離時の着色感光性樹脂層剥がれと現像時におけるが画素剥がれのない画像形成方法を提供することにある。【解決手段】仮支持体上に少なくとも着色感光性樹脂層が設けられた感光性転写材料を、表面処理された基板の表面に前記着色感光性樹脂層が接するように密着させて積層体を形成する積層体形成工程と、前記積層体から前記仮支持体を剥離する工程と、前記着色感光性樹脂層にパターン露光、現像することによって、前記基板の表面に画素パターンを形成する露光現像工程と、前記現像工程によって形成された前記画素パターンを加熱して硬化させる加熱工程と、を含む画像形成方法であって、前記基板の前記表面処理として予めヘキサメチルジシラザンに接触させることを特徴とする画像形成方法。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

仮支持体上に少なくとも着色感光性樹脂層が設けられた感光性転写材料を、表面処理された基板の表面に前記着色感光性樹脂層が接するように密着させて積層体を形成する積層体形成工程と、前記積層体から前記仮支持体を剥離する工程と、前記着色感光性樹脂層にパターン露光、現像することによって、前記基板の表面に画素パターンを形成する露光現像工程と、前記現像工程によって形成された前記画素パターンを加熱して硬化させる加熱工程と、を含む画像形成方法であって、前記基板の前記表面処理として予めヘキサメチルジシラザンに接触させることを特徴とする画像形成方法。

IPC (3件)：

G03F7/38 ,  G02B5/20 ,  G03F7/40

FI (3件)：

G03F7/38 501 ,  G02B5/20 101 ,  G03F7/40 501

Fターム (16件)：

2H048BA11 ,  2H048BA43 ,  2H048BA45 ,  2H048BA48 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42 ,  2H096AA28 ,  2H096BA05 ,  2H096BA20 ,  2H096CA02 ,  2H096CA16 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096JA02 ,  2H096JA04