特許

J-GLOBAL ID：200903015157394200

浄化槽

発明者： 石井 康弘 ,  佐藤 敏彦
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社 ,  キンセキ株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-068263
公開番号（公開出願番号）：特開平11-262792
出願日： 1998年03月18日
公開日（公表日）： 1999年09月28日
要約：

【要約】【課題】 膜分離装置を組み込んだ活性汚泥槽の汚泥濃度を測定し、該測定結果に基づいて汚泥を引き抜くようにして、一定の濃度管理ができるようにした浄化槽を提供する。【解決手段】 少なくとも活性汚泥槽1と、該活性汚泥槽1に接続し活性汚泥を引き抜き貯留させる汚泥濃縮貯留槽2を有する浄化槽において、前記活性汚泥槽1に処理水を取り出すための膜分離装置3と活性汚泥濃度を測定する超音波測定装置4を組み込み、該超音波測定装置4の周波数5〜25MHzにより前記活性汚泥濃度を測定し、該測定結果が5,000〜25,000mg/Lの任意の濃度に保つようにした設定値を超えたときに、活性汚泥を前記汚泥濃縮貯留槽2へ引き抜くようにする。

請求項（抜粋）：

少なくとも活性汚泥槽と、該活性汚泥槽に接続し活性汚泥を引き抜き貯留させる汚泥濃縮貯留槽を有する浄化槽において、前記活性汚泥槽に処理水を取り出すための膜分離装置と活性汚泥濃度を測定する超音波測定装置を組み込み、該超音波測定装置の周波数5〜25MHzにより前記活性汚泥濃度を測定し、該測定結果が5,000〜25,000mg/Lの任意の濃度に保つようにした設定値を超えたときに、活性汚泥を前記汚泥濃縮貯留槽へ引き抜くことを特徴とする浄化槽。

IPC (4件)：

C02F 3/12 ZAB ,  C02F 3/12 ,  C02F 1/44 ,  C02F 3/00

FI (5件)：

C02F 3/12 ZAB P ,  C02F 3/12 S ,  C02F 1/44 F ,  C02F 1/44 K ,  C02F 3/00 F