特許

J-GLOBAL ID：200903015158036390

半導体装置の製造方法及び洗浄液の混合方法

発明者： 太田 勝啓 ,  筒井 義隆 ,  平林 久明 ,  伊藤 晴夫 ,  野口 雄二 ,  斉藤 昭男
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-179316
公開番号（公開出願番号）：特開平11-026417
出願日： 1997年07月04日
公開日（公表日）： 1999年01月29日
要約：

【要約】【課題】本発明は、循環ポンプや撹拌機構を使用せずに均一な濃度の洗浄液の混合を行う方法を提供するものである。したがって、装置の設置体積、面積、装置価格が低減できる方法を提供するものでもある。【解決手段】本発明は、図1に示す本発明の供給管を介して超純水を洗浄槽に供給した後、加熱して温水にする。その後、洗浄液の組成分である薬液の原液を供給し、再度超純水を供給管を介して供給することにより均一な濃度の洗浄液を調合を行う。

請求項（抜粋）：

液体が、穴を有する供給管を介して供給されることにより生じる乱流により混合されることを特徴とする洗浄液の混合方法。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304

FI (2件)：

H01L 21/304 341 T ,  H01L 21/304 341 M