化粧料

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤本昇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-226712
公開番号（公開出願番号）：特開2000-053558
出願日： 1998年08月11日
公開日（公表日）： 2000年02月22日
要約：

【要約】【課題】化粧石鹸、洗顔料、シャンプー、リンス等の化粧料に関し、脱臭効果や抗菌効果が優れているとともに安全性にも優れた化粧料を提供することを課題とする。【解決手段】クマザサの抽出成分又は炭を含有したことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

クマザサの抽出成分又は炭が含有されていることを特徴とする化粧料。

IPC (7件)：

A61K 7/48 , A61K 7/00 , C11D 3/382 , A01N 65/00 , A61K 7/075 , A61K 7/50 , C11B 9/00

FI (8件)：

A61K 7/48 , A61K 7/00 K , A61K 7/00 U , C11D 3/382 , A01N 65/00 A , A61K 7/075 , A61K 7/50 , C11B 9/00 Z

Fターム (53件)：

4C083AA072 , 4C083AA082 , 4C083AA111 , 4C083AA112 , 4C083AA122 , 4C083AB032 , 4C083AB131 , 4C083AB132 , 4C083AB232 , 4C083AB432 , 4C083AB442 , 4C083AB502 , 4C083AC012 , 4C083AC102 , 4C083AC122 , 4C083AC242 , 4C083AC442 , 4C083AC522 , 4C083AC542 , 4C083AC582 , 4C083AC662 , 4C083AC852 , 4C083AD222 , 4C083AD302 , 4C083AD322 , 4C083AD332 , 4C083AD432 , 4C083AD532 , 4C083AD642 , 4C083CC01 , 4C083CC05 , 4C083CC07 , 4C083CC23 , 4C083CC38 , 4C083EE09 , 4H003AB03 , 4H003BA01 , 4H003DA02 , 4H003EA24 , 4H003EA31 , 4H003EB39 , 4H003EB43 , 4H003ED28 , 4H003FA01 , 4H003FA34 , 4H011AA01 , 4H011BA05 , 4H011BB18 , 4H011BB22 , 4H059BC41 , 4H059CA11 , 4H059EA06 , 4H059EA40

引用特許：

審査官引用 (8件)

笹塩と笹塩製品
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-103692 出願人：児玉美恵子, 清水智子, 和田緑
抗菌性低刺激化粧料
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-227494 出願人：株式会社ノエビア
抗菌性低刺激化粧料
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-090485 出願人：株式会社ノエビア

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