特許

J-GLOBAL ID：200903015167127501

純水又は超純水の製造装置及び製造方法

発明者： 阿部 嗣 ,  天谷 徹
出願人/特許権者： 野村マイクロ・サイエンス株式会社
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-056135
公開番号（公開出願番号）：特開2005-246126
出願日： 2004年03月01日
公開日（公表日）： 2005年09月15日
要約：

【課題】コストを上げることなく、TOCの増加を防ぎ、かつ、安定してホウ素濃度の低い超純水を製造することが可能な純水の製造方法及び製造装置を提供する。【解決手段】原水から懸濁物質を除去する前処理手段と、この前処理手段により得られた処理水からイオン又は非イオン性物質を除去する純水処理手段とを有する純水又は超純水の製造する装置において、前処理手段1の後段に、ホウ素除去のためのホウ素選択除去性イオン交換繊維2を有し、さらにその後段に、逆浸透膜装置5等の膜装置を有することを特徴とする純水又は超純水の製造装置。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

原水から懸濁物質を除去する前処理手段と、この前処理手段により得られた処理水からイオン又は非イオン性物質を除去する純水処理手段とを有する純水又は超純水を製造する装置において、 ホウ素除去のためのホウ素選択除去性イオン交換繊維を有するイオン交換手段と、さらにその後段に逆浸透膜、限外ろ過膜又は精密ろ過膜を備えた膜装置とを設けたことを特徴とする純水又は超純水の製造装置。

IPC (5件)：

C02F1/42 ,  B01J47/02 ,  B01J47/04 ,  B01J47/12 ,  C02F1/44

FI (5件)：

C02F1/42 A ,  B01J47/02 C ,  B01J47/04 B ,  B01J47/12 E ,  C02F1/44 J

Fターム (31件)：

4D006GA03 ,  4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006KA01 ,  4D006KA52 ,  4D006KA55 ,  4D006KA57 ,  4D006KA64 ,  4D006KA72 ,  4D006KB04 ,  4D006KB11 ,  4D006KB14 ,  4D006KB17 ,  4D006PA01 ,  4D006PB06 ,  4D006PC02 ,  4D025AA04 ,  4D025AB01 ,  4D025AB02 ,  4D025AB05 ,  4D025AB33 ,  4D025BA09 ,  4D025BA14 ,  4D025BA22 ,  4D025BA25 ,  4D025BB02 ,  4D025BB03 ,  4D025BB04 ,  4D025DA01 ,  4D025DA04 ,  4D025DA05

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特許第3200301号公報
  

審査官引用 (2件)

• 特開平4-078483
  
• 特許第3200301号