特許
J-GLOBAL ID：200903015176714673
凹凸の形成方法及び磁気記録媒体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
薄田 利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-115598
公開番号（公開出願番号）：特開平8-315356
出願日： 1995年05月15日
公開日（公表日）： 1996年11月29日
要約：
【要約】【目的】領域により互いに高さの異なる凹凸を形成するときに、エッチングの再現性を確保し、精度を向上させ、凹凸形成の行程を短縮し、プロセス裕度を持たせ、さらに設備投資額の抑制を可能とする凹凸の形成方法を提供すること。【構成】基体の表面に微粒子12からなるマスク材を配置し、これを真空容器内に設置し、その中にエッチングガスを導入し、プラズマを発生させ、プラズマの密度を部分的に変化させて基体表面をエッチングして、基体の複数の領域に、それぞれ互いに異なる高さの凹凸を同時に形成する凹凸の形成方法。
請求項（抜粋）：
表面に微粒子からなるマスク材が配置された基体を真空容器内に設置し、真空容器内に所望のエッチングガスを導入し、プラズマを発生させ、基体表面をエッチングし、基体の複数の領域に、それぞれ互いに異なる高さの凹凸を同時に形成することを特徴とする凹凸の形成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G11B 5/84 A
, C23F 4/00 A
