特許
J-GLOBAL ID:200903015187123189

実質的に単分散の燐光体粒子の製造

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山田 行一 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-524378
公開番号(公開出願番号):特表2001-526298
出願日: 1998年12月04日
公開日(公表日): 2001年12月18日
要約:
【要約】本発明は、活性化された、実質的に単分散の燐光性粒子の製造方法、及び、それによって形成される粒子に関するものである。本方法は、流動化ガス中に、実質的に単分散の燐光体-前駆体粒子を浮遊させ、次いで反応性ガスを導入して、この浮遊された燐光体-前駆体粒子と接触させる。次いで、この浮遊された燐光体-前駆体粒子を反応温度まで加熱して、活性化されていない燐光性粒子を形成させる。他の実施態様においては、燐光体-前駆体粒子は、反応温度まで加熱され得り、その温度でそれらは分解して、活性化されていない粒子を形成する。流動化ガス内に浮遊された、活性化されていない燐光性粒子は、活性化されていない燐光性粒子を活性化温度まで加熱することによって、活性化させて、活性化した実質的に単分散の燐光性粒子を形成する。
請求項(抜粋):
活性化された実質的に単分散の燐光性粒子を製造する方法であって、 流動化ガス中に、実質的に単分散の燐光体-前駆体粒子を浮遊させる工程と、反応性ガスを導入して、前記浮遊された燐光体-前駆体粒子と接触させる工程と、 活性化されていない燐光性の粒子を形成させるのに充分な反応温度まで、前記浮遊された燐光体-前駆体粒子を加熱する工程と、 反応性ガスの導入を停止する工程と、活性化されていない燐光性粒子を、反応温度以上の活性化温度まで加熱することによって、前記流動化ガス中に浮遊された、活性化されていない燐光性粒子を活性化させて、活性化された実質的に単分散の燐光性粒子を形成させる工程と を含む、活性化された実質的に単分散の燐光性粒子を製造する方法。
FI (2件):
C09K 11/08 A ,  C09K 11/08 G
Fターム (11件):
4H001CF01 ,  4H001CF02 ,  4H001XA00 ,  4H001XA08 ,  4H001XA09 ,  4H001XA16 ,  4H001XA30 ,  4H001XA39 ,  4H001XA68 ,  4H001XA70 ,  4H001XA89

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