特許
J-GLOBAL ID:200903015187585956

感光性樹脂組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 岩見谷 周志
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-026196
公開番号(公開出願番号):特開平7-248626
出願日: 1995年01月20日
公開日(公表日): 1995年09月26日
要約:
【要約】【構成】 特定のポリイミド樹脂前駆体、下記式:【化1】(式中、R2 は炭素原子数1〜50の有機基であり、i及びjはそれぞれ1〜7の整数である。)で表される感光性ジアゾキノン化合物及びフェノールノボラック樹脂を含有してなる感光性樹脂組成物。該組成物を基板上に塗布し、乾燥し、形成された塗膜を露光し、アルカリ現像し、得られたパターン化されたポリイミド皮膜を硬化させることからなるパターン化されたポリイミド皮膜の形成方法。【効果】 アルカリ性水溶液で現像可能であり、現像による膜減りが少なく感度が良好な耐熱性の皮膜を与える。従って、電子部品用保護膜等として有用である。
請求項(抜粋):
(A) 下記一般式(1) :【化1】〔式中、複数のRは同一でも異なってもよく、下記一般式(2) :【化2】(式中、複数のR1 は同一でも異なってもよく、-H又は炭素原子数1〜8の1価の有機基である。)で表されるシリル基であり、Xは4価の有機基であり、Yは2価の有機基であり、mは5〜80の整数である。〕で表されるポリイミド樹脂前駆体、(B) 下記一般式(3) :【化3】(式中、R2 は炭素原子数1〜50の有機基であり、iは1〜7の整数である。)で表される感光性ジアゾキノン化合物、下記一般式(4) :【化4】(式中、R2 は前記のとおりであり、jは1〜7の整数である。)で表される感光性ジアゾキノン化合物、又はそれらの組み合わせ、及び(C) 下記一般式(5) :【化5】(式中、R3 は-H又は炭素原子数1〜6の有機基であり、nは2〜100 の整数である。)で表されるフェノールノボラック樹脂を含有してなる感光性樹脂組成物。
IPC (13件):
G03F 7/037 501 ,  C08K 5/41 ,  C08L 79/08 LRC ,  G02F 1/1337 525 ,  G03F 7/023 501 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/075 511 ,  G03F 7/40 501 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/312 ,  H01L 23/29 ,  H01L 23/31 ,  H05K 3/28
FI (2件):
H01L 21/30 502 P ,  H01L 23/30 C
引用特許:
審査官引用 (2件)

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