特許
J-GLOBAL ID：200903015190112120
真空装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-342690
公開番号（公開出願番号）：特開平5-171440
出願日： 1991年12月25日
公開日（公表日）： 1993年07月09日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】本発明はロードロック方式の真空装置に関して、特に、被処理物を移送する際、真空予備室から真空処理室へ外部の酸素や水蒸気などの異物を極力侵入を抑えることを目的とする。【構成】ロードロック方式の真空装置の処理室1において、圧力調整用ガス開口部2と放電部を隔離する壁7を設け、外部からの異物侵入を極力抑えることができる。【効果】被処理物や真空処理室に悪影響を与える外部からの異物侵入を抑える効果がある。
請求項（抜粋）：
被処理物を載置し、処理するための真空処理室と、前記真空処理室を排気するために設けられた第一の排気装置系と、被処理物を前記真空処理室内に移送する搬送系と、前記真空処理室に隣接して配置され、搬送系の一部を格納し、被処理物を前記真空処理室へ移送されるとき、その内部を通過する真空予備室と、前記真空予備室を排気すべく設けられた第二の排気装置系と、前記真空処理室と前記真空予備室に気体を供給し両室内の圧力をそれぞれ独立に制御できるガス供給装置系とを備えた真空装置において、前記真空予備室から前記真空処理室へ移送する際、直前に前記真空処理室内の圧力が真空予備室の圧力より高くなるように、前記ガス供給装置系から圧力調整用ガスを両室内に導入することを特徴とする真空装置。
IPC (2件)：
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