特許
J-GLOBAL ID：200903015196412339
電圧測定装置のE-Oプローブ位置決め方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-054225
公開番号（公開出願番号）：特開平6-265606
出願日： 1993年03月15日
公開日（公表日）： 1994年09月22日
要約：
【要約】【目的】 電圧測定装置のE-Oプローブの位置決めを改良する。【構成】 E-Oプローブの位置決めのための第1ステップにおいて、E-Oプローブの底面に拡大光学系を合焦させた第1状態でのE-Oプローブと拡大光学系の相対的位置関係と、E-Oプローブを光路から外した第2状態での拡大光学系の合焦面と上記第1状態での合焦面の位置差とを記憶しておく。この相対的位置関係および合焦面間の位置差は、被測定デバイスの如何に拘らず、電圧測定装置において一定である。次に、第2のステップとして、被測定デバイスの表面の観測位置に拡大光学系を第2状態において合焦させ、次に、第3ステップとして拡大光学系を第1のステップで記憶した位置差だけ被測定デバイスから離間させ、次に第4ステップとしてE-Oプローブを第1のステップで記憶した相対的位置関係まで移動させる。
請求項（抜粋）：
被測定デバイスの表面を合焦状態で観測するための拡大光学系と、前記被測定デバイスに近接させられて電圧測定のためのレーザ光が入射されるE-Oプローブと、このE-Oプローブを前記拡大光学系に対して相対的に移動させるプローブステージとを備える電圧測定装置に適用され、前記被測定デバイス表面の前記拡大光学系による観測位置に前記E-Oプローブを近接させて位置決めするE-Oプローブ位置決め方法において、前記E-Oプローブの底面に前記拡大光学系を合焦させた第1状態での前記E-Oプローブと前記拡大光学系の相対的位置関係を記憶し、かつ、前記E-Oプローブを前記被測定デバイスの表面を観測する光路から実質的に外した第2状態での前記拡大光学系の合焦面と前記第1状態での合焦面との位置差とを記憶しておく第1のステップと、前記被測定デバイス表面の前記観測位置に前記拡大光学系を前記第2状態において合焦させる第2のステップと、前記拡大光学系を前記第1のステップで記憶した前記位置差だけ前記被測定デバイスから離間させる第3ステップと、前記E-Oプローブを前記第1のステップで記憶した前記相対的位置関係の状態まで移動させる第4のステップとを備えることを特徴とする電圧測定装置のE-Oプローブ位置決め方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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