特許
J-GLOBAL ID:200903015208932384
放射源、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法
発明者:
,
,
,
,
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
浅村 皓
, 浅村 肇
, 岩本 行夫
, 吉田 裕
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-363845
公開番号(公開出願番号):特開2004-165155
出願日: 2003年09月17日
公開日(公表日): 2004年06月10日
要約:
【課題】生産に適した出力レベルおよび繰返し速度を実現する放射源を提供する。【解決手段】プラズマを形成して電磁放射を生成するために、アノード220とカソード210間の空間内のガスまたは蒸気中で放電を起こすように構成される。ガスまたは蒸気は、キセノン、インジウム、リチウム、およびスズを含む。熱の損失を改善するために、放射源LAは複数のプラズマ放電要素240を含み、それぞれを短い時間だけ用い、その後他の放電要素が選択される。【選択図】図2
請求項(抜粋):
プラズマを形成して電磁放射を生成するために、アノードとカソード間の放電空間内の物質中で放電を起こすように構成され配置されたアノードおよびカソードを備える放射源であって、複数の放電要素を含む放射源。
IPC (7件):
H05G2/00
, G03F7/20
, G21K5/00
, G21K5/02
, G21K5/08
, H01L21/027
, H05H1/24
FI (10件):
H05G1/00 K
, G03F7/20 521
, G21K5/00 Z
, G21K5/02 X
, G21K5/08 X
, G21K5/08 Z
, H05H1/24
, H01L21/30 531A
, H01L21/30 531S
, H01L21/30 517
Fターム (11件):
4C092AA04
, 4C092AA05
, 4C092AA06
, 4C092AB21
, 4C092AC09
, 4C092BD17
, 4C092BE06
, 4C092BE07
, 5F046BA05
, 5F046GA03
, 5F046GC03
引用特許:
前のページに戻る