特許
J-GLOBAL ID:200903015229388234
P2 O5 系琺瑯の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
小杉 佳男 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-040330
公開番号(公開出願番号):特開平11-236243
出願日: 1998年02月23日
公開日(公表日): 1999年08月31日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】低温焼成が可能であるP2 O5 系の琺瑯を製造する場合に、スリップ中の琺瑯フリットを十分に分散させると共に、均質施釉に必要なスリップの流動性を確保する、。【解決手段】P2 O5 を45〜65重量%含有するP2 O5 系フリット100重量部に対して、分散剤としてリン酸ナトリウム塩を0.1〜5重量部、水を35〜60重量部添加し、回転速度が120rpmの時のスリップのずり応力が0.5Pa以下であるスリップを製造し、該スリップを合金化処理溶融亜鉛めっき鋼板表面上に施釉した後、530°Cで焼成し、厚さ30μm2琺瑯層を形成した。
請求項(抜粋):
P2 O5 を45〜65重量%含有するP2 O5 系フリットに、分散剤としてリン酸ナトリウム塩を加え、水中で粉砕、混合してスリップを作成し、該スリップを施釉して琺瑯を形成することを特徴とするP2 O5 系琺瑯の製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特開平3-083836
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特開昭57-164161
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特開昭60-038474
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