特許
J-GLOBAL ID：200903015232977313

ポリマー光ファイバの屈折率分布型プロフィールを作成するプロセス

発明者：
フランク,ヴェルナー

フランク,ヴェルナー について

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カウフホルド,ユルゲン

カウフホルド,ユルゲン について

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チマン,オラフ

チマン,オラフ について


出願人/特許権者：
ドイッチェ テレコム アーゲー

ドイッチェ テレコム アーゲー について


代理人 (1件)： 岡部 正夫 (外11名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-549450
公開番号（公開出願番号）：特表2002-515615
出願日： 1999年04月30日
公開日（公表日）： 2002年05月28日
要約：
【要約】本発明は、ポリマー光ファイバの屈折率分布型プロフィールを作成するプロセスに関する。プロセスは、電離放射線が、例えばPMMAなどの屈折率を増加させるということに基づく。したがって、所与の速度で縦方向に放射線源を通過し、その後、規定の時間長だけ焼き戻す間、ポリマー光ファイバ、プレフォームまたはファイバ・コア・プレフォームを、所定の波長および照射量の電離放射線で照射する。鏡、レンズまたは開口システムによって電離放射線の空間的分布を制御することにより、ファイバの全長にわたって均一な半径方向の屈折率分布型プロフィールが生成され、その結果、光導波管として使用するポリマー・ファイバは、光信号の非常に改良された伝送特性を有する。
請求項（抜粋）：
ポリマー光ファイバに屈折率分布型プロフィールを作成するプロセスであって、 その(1)ポリマー光ファイバまたはプレフォームまたはファイバ・コア・プレフォームが、所与の速度でファイバ中心線(7)に沿って前進する間に、所定の照射量および波長の電磁放射線に露出し、 その(1)ポリマー光ファイバまたはプレフォームまたはファイバ・コア・プレフォームの電磁放射線の強度の空間分布が、光学的要素によって照射長全体にわたって規定され、照射が回転対称であり、 その後、均一な屈折率分布型プロフィールが形成されるよう、照射領域の屈折率が変化するような方法で、その(1)ポリマー光ファイバまたはプレフォームまたはファイバ・コア・プレフォームが、所定の期間、所定の温度で焼き戻されることを特徴とするプロセス。
IPC (4件)：
G02B 6/18 ,  B29C 71/04 ,  G02B 6/00 366 ,  B29D 11/00
FI (4件)：
G02B 6/18 ,  B29C 71/04 ,  G02B 6/00 366 ,  B29D 11/00
Fターム (12件)：
2H050AA17 ,  2H050AB43X ,  2H050AC05 ,  4F073AA32 ,  4F073BA18 ,  4F073BB01 ,  4F073BB11 ,  4F073CA42 ,  4F213AH77 ,  4F213WA53 ,  4F213WA83 ,  4F213WA86
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 特開昭63-033705
  • 特開昭57-053709
  • 特許第6200503号
審査官引用 (3件)
  • 特開昭63-033705
  • 特開昭57-053709
  • 特許第6200503号
引用文献：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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