特許

J-GLOBAL ID：200903015235615056

日射遮蔽膜形成用塗布液の製造方法

発明者： 長南 武 ,  久野 裕子
出願人/特許権者： 住友金属鉱山株式会社
代理人 (1件)： 上田 章三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-391685
公開番号（公開出願番号）：特開2002-194291
出願日： 2000年12月22日
公開日（公表日）： 2002年07月10日
要約：

【要約】【課題】 日射遮蔽膜形成用塗布液を簡便に調製できる日射遮蔽膜形成用塗布液の製造方法を提供すること。【解決手段】 6ホウ化物微粒子とインジウム錫酸化物微粒子またはアンチモン錫酸化物微粒子とを含有する日射遮蔽膜形成用塗布液の製造方法であって、6ホウ化物微粒子と、L*a*b*表色系における粉体色L*が30〜80、a*が-10〜-0.1、b*が-15〜-1である平均粒径100nm以下のインジウム錫酸化物微粒子および/またはアンチモン錫酸化物微粒子とを、重量比で0.1:99.9〜90:10の範囲となるように混合した後、溶媒およびバインダー中に分散させることを特徴とする。6ホウ化物微粒子とインジウム錫酸化物微粒子などを事前に混合した後、溶媒およびバインダー中に分散させているため、従来の2液など多液混合方式と較べ上記塗布液を簡便に調製できる。

請求項（抜粋）：

6ホウ化物微粒子とインジウム錫酸化物微粒子および/またはアンチモン錫酸化物微粒子とを含有する日射遮蔽膜形成用塗布液の製造方法において、上記6ホウ化物微粒子と、L*a*b*表色系における粉体色L*が30〜80、a*が-10〜-0.1、b*が-15〜-1である平均粒径100nm以下のインジウム錫酸化物微粒子および/またはアンチモン錫酸化物微粒子とを、重量比で0.1:99.9〜90:10の範囲となるように混合した後、溶媒およびバインダー中に分散させることを特徴とする日射遮蔽膜形成用塗布液の製造方法。

IPC (5件)：

C09D201/00 ,  C03C 17/22 ,  C09D 5/32 ,  C09D 7/12 ,  G02B 5/22

FI (5件)：

C09D201/00 ,  C03C 17/22 ,  C09D 5/32 ,  C09D 7/12 ,  G02B 5/22

Fターム (20件)：

2H048CA05 ,  2H048CA12 ,  2H048CA17 ,  4G059AA01 ,  4G059AC06 ,  4G059FA07 ,  4G059FA15 ,  4G059FA28 ,  4J038CG001 ,  4J038DB001 ,  4J038DL031 ,  4J038DM021 ,  4J038HA216 ,  4J038HA476 ,  4J038KA06 ,  4J038KA08 ,  4J038NA19 ,  4J038PB05 ,  4J038PC03 ,  4J038PC08