特許

J-GLOBAL ID：200903015237149966

CVD装置のクリーニング方法

発明者： 福田 琢也 ,  大塚 道夫 ,  吉岡 健 ,  佐藤 淳二
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-231026
公開番号（公開出願番号）：特開平9-082645
出願日： 1995年09月08日
公開日（公表日）： 1997年03月28日
要約：

【要約】【目的】 CVD装置のクリーニングの終点を検出する。【構成】 CVD装置のクリーニングの終点検出をクリーニングに関与するプラズマ種と関与しない種の発行強度比から行う、または、クリーニング中の圧力変化あるいは、プラズマ電位変化から検出する。【効果】 過剰クリーニングによる装置部品の摩耗、過少クリーニングにより発生する、異物発生に基づく歩留まり低下の防止が図れる。

請求項（抜粋）：

CVD装置において、装置内壁の付着物をプラズマを用いてクリーニングする際に、クリーニングに関与しない希ガスを導入しておき、クリーニングの終点を、クリーニングに関与するプラズマ種と該希ガスの発光種の発光強度の相対強度変化から決めることを特徴としたCVD装置のクリーニング方法。

IPC (4件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065

FI (4件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 F ,  H01L 21/302 B