特許
J-GLOBAL ID:200903015254911316

レーザ照明光学系及びそれを用いた露光装置、レーザ加工装置、投射装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 樺山 亨 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-017060
公開番号(公開出願番号):特開2003-218017
出願日: 2002年01月25日
公開日(公表日): 2003年07月31日
要約:
【要約】【課題】レーザアレイ光源とフライアイレンズを有し、従来、照度均一化が困難であったフライアイレンズの分割数がレーザアレイ数の約数のときにも、被照射部での照度均一性を高めることができるレーザ照明光学系を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、少なくともレーザアレイ光源10と、フライアイレンズ13,14のレーザアレイ方向の分割数がレーザアレイ数の約数であるフライアイインテグレータで構成されるレーザ照明光学系であって、フライアイレンズ13,14の各アレイに入射されるアレイ光のプロファイルの位相が各々異なることを特徴とするので、レーザアレイの周期構造とフライアイレンズの大きさを所定の条件にすることで、フライアイレンズの分割数がレーザアレイ光のアレイ数の約数の条件でも被照射部16での照度の均一化を図ることができる。
請求項(抜粋):
少なくともレーザアレイ光源と、フライアイレンズのレーザアレイ方向の分割数がレーザアレイ数の約数であるフライアイインテグレータで構成されるレーザ照明光学系であって、前記フライアイレンズの各アレイに入射されるアレイ光のプロファイルの空間的な位相が各々異なることを特徴とするレーザ照明光学系。
IPC (6件):
H01L 21/027 ,  G02B 19/00 ,  G02B 27/00 ,  G03B 21/00 ,  G03B 21/14 ,  G03F 7/20 501
FI (6件):
G02B 19/00 ,  G03B 21/00 E ,  G03B 21/14 A ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/30 515 D ,  G02B 27/00 V
Fターム (14件):
2H052BA02 ,  2H052BA09 ,  2H052BA11 ,  2H052BA12 ,  2H052BA14 ,  2H097CA17 ,  2H097GB00 ,  2H097LA10 ,  5F046BA04 ,  5F046CA03 ,  5F046CA05 ,  5F046CB13 ,  5F046CB14 ,  5F046CB23
引用特許:
審査官引用 (6件)
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