特許
J-GLOBAL ID：200903015274013993
基板周縁露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-347523
公開番号（公開出願番号）：特開平7-183207
出願日： 1993年12月24日
公開日（公表日）： 1995年07月21日
要約：
【要約】【目的】 露光作業中に光源の光量を検出することができ、処理を高速化でき、スループットが高い基板周縁露光装置を提供する。【構成】 光源5からの光は第1の光ファイバ束6aによってビームスプリッタ20に導かれる。そして、その一部はさらに第2の光ファイバ束6bを通ってレンズユニット7に導かれ、半導体ウエハWの周縁部に照射される。ビームスプリッタ20に導かれた光の他の一部は光検出器16に入射し、その光検出器16によってその時点での光量に応じた信号が出力され、制御装置15に伝えられる。制御装置15は、光検出器16からの信号を参照して、回転駆動機構3、モータ11、14を制御する。
請求項（抜粋）：
基板の周縁部に光源からの光を照射して、基板の表面に形成された感光膜のうち周縁部の膜を感光させる基板周縁露光装置において、投光光学手段と、該投光光学手段を前記基板の周縁にそって相対移動させる移動手段と、前記光源からの光を前記投光光学手段に導く光路形成手段と、該光路形成手段を通過する光の一部を分岐させる光分岐手段と、該光分岐手段を介して導いた光を受光して前記光源の光量を測定する光量測定手段とを設けたことを特徴とする基板周縁露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G02B 6/00 331
, G03F 7/20 521
