特許
J-GLOBAL ID：200903015276194596
流動層ボイラの脱硝装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
武 顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-183865
公開番号（公開出願番号）：特開平5-007731
出願日： 1991年06月28日
公開日（公表日）： 1993年01月19日
要約：
【要約】【目的】 NH3 による脱硝効率を向上させ、NH3 の消費量を少なくする。【構成】 排ガス通路9,11に配置されるNH3 注入管24の配置位置をNH3 注入管24から集塵装置10,12までの距離が排ガス滞留時間で0.5秒以下の前流側に配置する。つまり、NH3 は排ガス温度700〜900°Cにおいては、排ガス滞留時間で0.5秒以下ではNH3 が分解しないので、NH3 注入管24を滞留時間で0.5秒以下のところに配置するとよい。
請求項（抜粋）：
流動層ボイラの排ガス通路に排ガス中のダストを分離する集塵装置を設け、除塵された排ガスでガスタービンを駆動すると共にガスタービンに直結された圧縮機から流動層ボイラへ燃焼用空気を供給して燃焼させ、排ガス通路内にはNH3 注入管を配置して流動層ボイラの排ガスを脱硝するものにおいて、前記排ガス通路のNH3 注入管の配置位置をNH3 注入管から集塵装置までの距離がガス滞留時間で0.5秒以下の前流側に配置したことを特徴とする流動層ボイラの脱硝装置。
IPC (3件)：
B01D 53/34 129
, B01D 53/34 124
, F23J 15/00
