特許
J-GLOBAL ID:200903015289229801
電子放出素子、電子源、画像形成装置、それらの製造方法、及び電子源製造装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
渡辺 敬介 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-047323
公開番号(公開出願番号):特開2000-251670
出願日: 1999年02月25日
公開日(公表日): 2000年09月14日
要約:
【要約】【課題】 良好な電子放出特性を有する電子放出素子、均一性の高い電子源、均一性が高く良好な表示品質を有する画像形成装置、歩留り良く製造できるそれらの製造方法、及び電子源製造装置を提供する。【解決手段】 電子放出素子の製造方法が、基体1に一対の素子電極2,3を形成する工程と、素子電極2,3を形成した基体表面に薬液を噴霧して表面処理する工程と、基体1に有機金属を含有する溶液を付与する工程と、付与した溶液を熱分解して導電性膜4を形成する工程と、素子電極2,3間に通電し導電性膜4に電子放出部5を形成するフォーミング工程とを有する。
請求項(抜粋):
基体に一対の素子電極を形成する工程と、素子電極を形成した基体の表面に薬液を噴霧して表面処理する工程と、基体に有機金属を含有する溶液を付与する工程と、付与した溶液を熱分解して導電性膜を形成する工程と、素子電極間に通電して、導電性膜に電子放出部を形成するフォーミング工程とを有することを特徴とする電子放出素子の製造方法。
IPC (3件):
H01J 9/02
, H01J 1/316
, H01J 31/12
FI (3件):
H01J 9/02 E
, H01J 1/30 E
, H01J 31/12 C
Fターム (9件):
5C036EE01
, 5C036EE02
, 5C036EE14
, 5C036EF01
, 5C036EF06
, 5C036EF09
, 5C036EG12
, 5C036EH08
, 5C036EH26
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