基板処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：稲岡耕作 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-328684
公開番号（公開出願番号）：特開平10-308430
出願日： 1997年11月28日
公開日（公表日）： 1998年11月17日
要約：

【要約】【課題】薬液対策が容易で、基板を高品質に処理できる基板処理装置を提供する。【解決手段】薬液処理部MTCおよび水洗・乾燥処理部DTCによって、順にウエハが処理され、清浄なウエハが得られる。インデクサ部INDから各処理部MTC,DTCへのウエハの搬送は、多関節ロボットからなる第1および第2搬送ロボットMTR1,MTR2によって行われる。第1および第2搬送ロボットMTR1,MTR2は、関節の屈伸により、処理部およびウエハ載置台P1,P2にアクセスすることができるものであり、薬液対策のためのシールが容易である。また、第1および第2搬送ロボットMTR1,MTR2は、それぞれ2本のアーム、すなわちウエハ搬入アームB1,C1およびウエハ搬出アームB2,C2を有している。したがって、各処理部での処理前と処理後とで、異なるアームでウエハを保持できる。

請求項（抜粋）：

複数枚の基板を収容するためのカセットが載置されるカセット載置部と、基板をそれぞれ保持するための複数の基板保持ハンドを有し、上記カセット載置部に載置されたカセットに対して基板を収納または取り出しする基板収納/取り出し手段と、基板に対して第1の処理を施す第1処理ユニットと、基板に対して、第1の処理とは異なる第2の処理を施す第2処理ユニットと、一時的に基板が載置される複数の基板載置台と、それぞれ基板を保持することができる複数の第1基板保持アームを有し、この第1基板保持アームによって基板を搬送し、上記基板収納/取り出し手段、上記第1処理ユニットおよび上記基板載置台との間で基板の受け渡しを行うことができ、少なくとも上記基板収納/取り出し手段、上記第1処理ユニットおよび上記基板載置台にアクセスする各方向に沿う基板の移動を上記第1基板保持アームの関節の屈伸により行う第1基板搬送手段と、それぞれ基板を保持することができる複数の第2基板保持アームを有し、この第2基板保持アームによって基板を搬送し、上記基板載置台および上記第2処理ユニットとの間で基板の受け渡しを行うことができ、少なくとも上記基板載置台および上記第2処理ユニットにアクセスする各方向に沿う基板の移動を上記第2基板保持アームの関節の屈伸により行う第2基板搬送手段と、を含むことを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 , B08B 3/08 , B08B 3/12 , H01L 21/304 341

FI (4件)：

H01L 21/68 A , B08B 3/08 Z , B08B 3/12 A , H01L 21/304 341 C

引用特許：

審査官引用 (5件)

クラスタ型ホトリソグラフィシステム
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-165361 出願人：セミコンダクタシステムズ,インコーポレイテッド
基板搬送装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-337802 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平3-019252

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