特許

J-GLOBAL ID：200903015308901109

レーザ装置

発明者： 谷口 仁啓
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (6件)： 深見 久郎 ,  森田 俊雄 ,  仲村 義平 ,  堀井 豊 ,  野田 久登 ,  酒井 將行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-060152
公開番号（公開出願番号）：特開2008-221254
出願日： 2007年03月09日
公開日（公表日）： 2008年09月25日
要約：

【課題】断続的に高出力のレーザを照射して加工を行う際に生じる、レーザ発振の不安定さに起因する出力変動やポインティング位置の変動を抑制して、安定したレーザ発振を行えるレーザ装置を提供する。【解決手段】レーザ光源11から投光されるレーザ光17aを集束させる集束光学系と、前記レーザ光17aを加工対象物8へと導いて照射する加工光学系9と、前記集束光学系と前記加工光学系9との間に配置され、前記レーザ光17aを反射することにより遮断可能なシャッタシステム13と、を備える。前記シャッタシステム13は、前記集束光学系の光路上かつ前記レーザ光17aの集束点A近傍へと突出可能な反射鏡14を含み、前記反射鏡14は、突出した際に前記レーザ光17aを前記集束光学系および加工光学系9の光軸外へと反射(偏向)させて発散させる。【選択図】図6

請求項（抜粋）：

レーザ光源と、 前記レーザ光源から投光されるレーザ光を集束させる集束光学系と、 前記レーザ光を加工対象物へと導いて照射する加工光学系と、 前記集束光学系と前記加工光学系との間に配置され、前記レーザ光を反射することにより遮断可能なシャッタシステムと、を備え、 前記シャッタシステムは、前記集束光学系の光路上かつ前記レーザ光の集束点近傍へと突出可能な反射鏡を含み、 前記反射鏡は、突出した際に前記レーザ光を前記集束光学系および加工光学系の光軸外へと反射させる、レーザ装置。

IPC (3件)：

B23K 26/06 ,  H01S 3/00 ,  B23K 26/08

FI (4件)：

B23K26/06 J ,  H01S3/00 B ,  B23K26/08 B ,  B23K26/06 Z

Fターム (14件)：

4E068CA03 ,  4E068CA09 ,  4E068CD08 ,  4E068CD10 ,  4E068CD11 ,  4E068CD13 ,  4E068CE03 ,  5F172AD05 ,  5F172AD06 ,  5F172AE03 ,  5F172NN10 ,  5F172WW09 ,  5F172ZA04 ,  5F172ZZ01

引用特許：

出願人引用 (3件)

• レーザー光用シャッター
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-173182   出願人：住友金属鉱山株式会社
• レーザー光吸収装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-146267   出願人：株式会社アマダエンジニアリングセンター, 株式会社アマダ
• 実開昭61-61862号公報