特許
J-GLOBAL ID：200903015329326317
液相CVD方法及び液相CVD装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高月 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-134304
公開番号（公開出願番号）：特開平5-302170
出願日： 1992年04月27日
公開日（公表日）： 1993年11月16日
要約：
【要約】【目的】 良質な堆積膜を得ることができる液体CVD方法及び液体CVD装置を提供すること。【構成】 ?@堆積物質を液相状態を介して堆積する液相CVD方法において、液相状態の堆積物質に超音波振動を付与する工程を備える液相CVD方法。?A堆積物質を液相状態を介して堆積する液相CVDを行う液相CVD装置において、被堆積基体に超音波振動を付与する超音波発生手段9(圧電振動子、電歪振動子、磁歪振動子等)を備える液相CVD装置。
請求項（抜粋）：
堆積物質を液相状態を介して堆積する液相CVD方法において、液相状態の堆積物質に超音波振動を付与する工程を備えることを特徴とする液相CVD方法。
IPC (4件)：
C23C 16/44
, C30B 23/08
, H01L 21/31
, H01L 21/316
