特許

J-GLOBAL ID：200903015342659686

基板の自動処理装置および自動処理方法

発明者： 福田 雅彦 ,  横山 清一郎 ,  倉田 英明
出願人/特許権者： 出光興産株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 喜平 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-307017
公開番号（公開出願番号）：特開平5-025661
出願日： 1991年10月25日
公開日（公表日）： 1993年02月02日
要約：

【要約】【目的】 基板を収納するカセッタによる汚染をなくし、かつ、必要に応じ基板の導通検査や電解処理を行なえるようにした基板の自動処理装置および自動処理方法を提供する。【構成】 基板の自動処理装置を、複数の基板1を収納するカセッタ11と、このカセッタ11に収納された複数の基板1をそれぞれ保持する複数のチャック22を備えた基板保持部21と、この基板保持部21を駆動してカセッタ11からの基板1の取り出しもしくは収納,基板1の搬送,処理槽部30における基板1の浸漬もしくは引き上げ、および処理槽部30における基板1の保持を行なう駆動手段20とで構成する。また、カセッタ11内に収納された複数の基板1の側部に、カセッタ11内の基板1を垂直に配列させるアライメント機構15を設ける。さらに、必要に応じ、基板1をチャック11で挾持した際、基板1上に形成された導電性電極の検出端子と接触して電極の断線,短絡を検査する導通検査機構をチャック11の挾持面に設ける。

請求項（抜粋）：

複数の基板を収納するカセッタと、該カセッタに収納された複数の基板をそれぞれ保持する複数のチャックを備えた基板保持部と、該基板保持部を駆動してカセッタからの基板の取り出しもしくは収納,基板の搬送,処理槽における基板の浸漬もしくは引き上げ、および処理部における基板の保持を行なう駆動手段とからなることを特徴とした基板の自動処理装置。

IPC (8件)：

C23F 1/08 102 ,  G02B 5/20 ,  G02F 1/13 101 ,  G03F 7/26 ,  G11B 7/26 ,  H01L 21/304 341 ,  H05K 3/18 ,  H05K 3/26