特許
J-GLOBAL ID：200903015349196312
高周波誘導加熱炉
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大塚 学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-078065
公開番号（公開出願番号）：特開平9-245957
出願日： 1996年03月07日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：
【要約】【課題】高周波誘導加熱炉の試料付近の温度を高温にすると共に、その雰囲気を高純度に維持し、かつ反応ガス注入時における反応管内壁への多結晶SiCの付着・堆積を防止する。【解決手段】石英管により形成された反応管2内にルツボまたはサセプタなどの加熱処理部1が設置され、反応管2の外周に配置された加熱コイル4に高周波電流を流すことにより、加熱処理部1に供給される試料を加熱する高周波誘導加熱炉において、反応管2内に、加熱処理部1をその内部に設置されるように設けられたシリコンカーバイドにより構成された熱遮蔽管13を備えたものである。
請求項（抜粋）：
石英管により形成された反応管内にルツボまたはサセプタが設置され、前記反応管の外周に配置された加熱コイルに高周波電流を流すことにより、前記ルツボまたはサセプタに供給される試料を加熱する高周波誘導加熱炉において、前記反応管内に、前記ルツボまたはサセプタをその内部に設置されるように設けられたシリコンカーバイドにより構成された熱遮蔽管を備えたことを特徴とする高周波誘導加熱炉。
IPC (4件)：
H05B 6/24
, F27B 14/16
, H01L 21/205
, H01L 21/324
H05B 6/24
, F27B 14/16
, H01L 21/205
, H01L 21/324 D
