特許

J-GLOBAL ID：200903015362053733

反射型投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法

発明者： 寺沢 千明
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-030408
公開番号（公開出願番号）：特開2003-233002
出願日： 2002年02月07日
公開日（公表日）： 2003年08月22日
要約：

【要約】【課題】 光学系の全長及びミラーの最大有効径を小さくすると共に優れた結像性能を有する反射型投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法を提供する。【解決手段】 物体面上のパターンを像面上に投影する反射型投影光学系であって、中間像を形成する結像系であり、順次光を反射するとともに基本的に共軸系をなすように物体側から像側にかけて配置された第1のミラーと、第2のミラーと、第3のミラーと、第4のミラーとを有し、前記ミラーは、前記物体面から前記第1のミラーへの光線と前記第2のミラーから前記第3のミラーへの光線とが交差するように配置されている反射型投影光学系を提供する。

請求項（抜粋）：

物体面上のパターンを像面上に投影する反射型投影光学系であって、中間像を形成する結像系であり、順次光を反射するとともに基本的に共軸系をなすように物体側から像側にかけて配置された第1のミラーと、第2のミラーと、第3のミラーと、第4のミラーとを有し、前記ミラーは、前記物体面から前記第1のミラーへの光線と前記第2のミラーから前記第3のミラーへの光線とが交差するように配置されている反射型投影光学系。

IPC (5件)：

G02B 17/00 ,  G02B 27/18 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 503 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G02B 17/00 A ,  G02B 27/18 Z ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 503 ,  H01L 21/30 517 ,  H01L 21/30 531 A

Fターム (13件)：

2H087KA21 ,  2H087TA02 ,  2H087TA06 ,  2H097AA02 ,  2H097CA13 ,  2H097CA15 ,  2H097LA10 ,  2H097LA12 ,  5F046BA05 ,  5F046CB02 ,  5F046CB25 ,  5F046GA03 ,  5F046GB01