特許

J-GLOBAL ID：200903015364021014

ビームプロファイル均一化装置及び光ファイバ結合装置並びに露光装置

発明者： 西澤 代治 ,  宮内 康行
出願人/特許権者： 石川島播磨重工業株式会社
代理人 (1件)： 山田 恒光 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-191610
公開番号（公開出願番号）：特開2000-019453
出願日： 1998年07月07日
公開日（公表日）： 2000年01月21日
要約：

【要約】【課題】 レーザ光のビームプロファイルを均一化できる距離が長く且つ波長依存性が小さく取り扱いが容易なビームプロファイル均一化装置を提供する。【解決手段】 光源側光ファイバ6の光出射端6bから光ファイバ拡大鏡5の光入射端5aに入射し且つ光ファイバ拡大鏡5を構成している多数の光ファイバ素線を透過して光出射端5bより出射する光ファイバ素線ごとの光ビームLのビーム径が、個々の光ファイバ素線の開口数に応じて進行方向前方へ向かって拡がり、それぞれのビーム断面が重なり合うことで、光ビームL全体のビームプロファイルが均一化されるとともに、ビームプロファイルの均一化が可能な距離が従来に比べて長くなる。

請求項（抜粋）：

それぞれ光出射端が光入射端に対して拡径され且つ並列に結合された多数の光ファイバ素線よりなる光ファイバ拡大鏡を、ビームプロファイルを均一化すべき光ビームの伝送経路に配置したことを特徴とするビームプロファイル均一化装置。

IPC (4件)：

G02B 27/09 ,  G02B 6/06 ,  G02B 6/26 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G02B 27/00 E ,  G02B 6/06 ,  G02B 6/26 ,  H01L 21/30 515 D

Fターム (7件)：

2H037CA21 ,  2H046AA32 ,  2H046AD01 ,  5F046CA04 ,  5F046CB01 ,  5F046CB02 ,  5F046CB04