特許

J-GLOBAL ID：200903015365202306

酸化チタン薄膜光触媒の製造方法

発明者： 中村 健一 ,  山田 和寛
出願人/特許権者： 三菱瓦斯化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-112561
公開番号（公開出願番号）：特開2000-302442
出願日： 1999年04月20日
公開日（公表日）： 2000年10月31日
要約：

【要約】【課題】 簡単な操作で、しかも有機溶媒を使用しないで酸化チタン薄膜光触媒を製造する方法を提供する。【解決手段】 ヒドロキシ(ヒドロキシカルボキシラト)チタンの水溶液を基板にコーティングし、(1)室温から徐々に600°Cから700°Cまで加熱昇温して焼成、または(2)350nm以下の光を、エネルギー密度50〜100mJ/cm2 で照射する。

請求項（抜粋）：

ヒドロキシ(ヒドロキシカルボキシラト)チタンの水溶液を基板にコーティングした後、室温から徐々に600°C〜700°Cまで加熱昇温し、次いで600°C〜700°Cにて焼成することを特徴とする酸化チタン薄膜光触媒の製造方法。

IPC (3件)：

C01G 23/08 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02

FI (3件)：

C01G 23/08 ,  B01J 21/06 M ,  B01J 35/02 J

Fターム (19件)：

4G047CA02 ,  4G047CB05 ,  4G047CC03 ,  4G047CD02 ,  4G069AA01 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA27A ,  4G069BA27B ,  4G069BA48A ,  4G069BE08A ,  4G069BE08B ,  4G069CA01 ,  4G069CA17 ,  4G069EA08 ,  4G069FB23 ,  4G069FB33 ,  4G069FB77