光デバイスの光画定

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中村稔 (外9名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-542244
公開番号（公開出願番号）：特表2003-515782
出願日： 2000年11月30日
公開日（公表日）： 2003年05月07日
要約：

【要約】基板(212)又は別の下に位置する層(202)上に位置した光画定可能な物質を含む活性層(204)を形成し、活性層上に上側層(210)を形成し、次に、上側層を通して放射線を選択的に適用することにより活性層をパターニングすることにより光構造体を作製する。上側層は、活性層中の光画定可能な物質を活性化するのに必要な種類の放射線に対して実質的に透明である。

請求項（抜粋）：

第1の層、該第1の層の上に位置した第2の層及び前記第2の層の上に位置した第3の層を有する放射線により画定可能な材料であって、前記第1の層、前記第2の層及び前記第3の層はそれぞれ、第1の波長の入射光エネルギに応答して重合を活性化する未活性化状態の第1の感光性分子を含有したポリマーを有し、前記第2の層中の前記ポリマーは、前記第1の層及び前記第3の層のポリマーの場合よりも高い体積濃度の未活性化状態感光性分子を含有し、前記第2の感光性分子は、第2の波長の入射光エネルギに応答して重合を活性化し、前記第1の感光性分子は、前記第2の感光性分子の場合よりも、前記第2の波長の入射光エネルギに応答した重合の活性化が生じにくく、前記第2の感光性分子は、前記第1の感光性分子の場合よりも、前記第1の波長の入射光エネルギに応答した重合の活性化が生じにくい、ことを特徴とする材料。

IPC (2件)：

G02B 6/13 , G02B 6/12

FI (2件)：

G02B 6/12 M , G02B 6/12 N

Fターム (14件)：

2H047KA03 , 2H047LA03 , 2H047LA19 , 2H047PA01 , 2H047PA02 , 2H047PA03 , 2H047PA04 , 2H047PA05 , 2H047PA22 , 2H047QA01 , 2H047QA04 , 2H047QA05 , 2H047TA36 , 2H047TA43

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