特許
J-GLOBAL ID:200903015378880540
チウラムジスルフィドを無溶媒下で調製する方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
松井 光夫
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-600976
公開番号(公開出願番号):特表2002-537377
出願日: 2000年02月15日
公開日(公表日): 2002年11月05日
要約:
【要約】【課題】 従来の溶媒を用いる方法における欠点の無い方法を提供する。【解決手段】 酸素と金属触媒の存在下で二級アミンを二硫化炭素と反応させることを含む、チウラムジスルフィドを調製する方法において、前記方法が、対応するチウラムジスルフィドが反応条件下で液体であるところの二級アミンを用いて、無溶媒下で行われることを特徴とする方法。
請求項(抜粋):
酸素と金属触媒の存在下で二級アミンを二硫化炭素と反応させることを含む、チウラムジスルフィドを調製する方法において、前記方法が、対応するチウラムジスルフィドが反応条件下で液体であるところの二級アミンを用いて、無溶媒下で行われることを特徴とする方法。
IPC (5件):
C07C333/32
, C10M135/18
, C07B 61/00 300
, C08K 5/40
, C08L 21/00
FI (5件):
C07C333/32
, C10M135/18
, C07B 61/00 300
, C08K 5/40
, C08L 21/00
Fターム (24件):
4H006AA02
, 4H006AA03
, 4H006AB48
, 4H006AB61
, 4H006AC52
, 4H006AC63
, 4H006BA05
, 4H006BA16
, 4H006BA32
, 4H006BB70
, 4H006BC10
, 4H006BC11
, 4H006BC14
, 4H006BC31
, 4H006BC34
, 4H006BE30
, 4H039CA71
, 4H039CA80
, 4H039CL00
, 4H104BG10C
, 4J002AC001
, 4J002EV166
, 4J002FD156
, 4J002FD206
引用特許:
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