特許

J-GLOBAL ID：200903015380686280

光学部品の乾燥方法

発明者： 西 和幸 ,  谷 博蔵
出願人/特許権者： ミノルタ株式会社
代理人 (1件)： 佐野 静夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-373730
公開番号（公開出願番号）：特開2002-174701
出願日： 2000年12月08日
公開日（公表日）： 2002年06月21日
要約：

【要約】【課題】 表面に光学薄膜を有する光学部品の十分な乾燥を簡単な構成で短時間に完結させることができる乾燥方法を提供する。【解決手段】 表面に光学薄膜を有する光学部品を洗浄し(#10〜#70)、乾燥工程(#80)において加温ゾーン,温風ゾーン内の空気中で加熱乾燥させる。その後、乾燥した窒素ガスでパージされた冷却ゾーン内に光学部品を所定時間保持し、窒素ガスを光学薄膜に吹き付けて接触させることにより、光学部品を冷却乾燥させる。

請求項（抜粋）：

表面に光学薄膜を有する光学部品の乾燥方法であって、水系の洗浄液で洗浄された前記光学薄膜に、乾燥した窒素ガスを接触させることを特徴とする光学部品の乾燥方法。

IPC (3件)：

G02B 1/10 ,  B08B 3/04 ,  F26B 21/14

FI (3件)：

B08B 3/04 Z ,  F26B 21/14 ,  G02B 1/10

Fターム (18件)：

2K009DD06 ,  2K009EE00 ,  3B201AA03 ,  3B201BB01 ,  3B201BB82 ,  3B201CC01 ,  3B201CC11 ,  3L113AA01 ,  3L113AB02 ,  3L113AC01 ,  3L113AC28 ,  3L113AC47 ,  3L113AC67 ,  3L113BA01 ,  3L113CB01 ,  3L113CB19 ,  3L113DA10 ,  3L113DA13