特許
J-GLOBAL ID:200903015414129571

液晶表示素子用ガラス基板の加工方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴木 晴敏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-184407
公開番号(公開出願番号):特開平6-003656
出願日: 1992年06月18日
公開日(公表日): 1994年01月14日
要約:
【要約】【目的】 液晶表示素子用ガラス基板の表面不純物濃度を低減し且つ表面平坦度を向上させる。【構成】 工程S1で表面研磨処理を施した後、工程S2で通常の基板洗浄を行なう。続いて、工程S3で表面エッチング処理を行ない研磨粒子残渣等を除去する。工程S4でSiO2 膜を被覆し基板表面に残された凹凸やスクラッチを埋めるとともに、工程S5で熱処理を行ない平滑化を促進する。
請求項(抜粋):
研磨処理及びエッチング処理が施されたガラス基板に対してそのガラス表面を平坦にする様にSiO2 膜を形成する事を特徴とする液晶表示素子用ガラス基板の加工方法。

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