特許

J-GLOBAL ID：200903015424279822

近接効果の補正方法

発明者： 山田 節 ,  野川 薫 ,  西川 円 ,  原田 八十雄
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社
代理人 (1件)： 河野 登夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-056302
公開番号（公開出願番号）：特開平7-263320
出願日： 1994年03月25日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：

【要約】【目的】 近接効果によるパターンの歪みを補正する近接効果の補正方法を提供する。【構成】 最外郭の1辺が6μm の正方形であり、その内側に所定の間隔で徐々に小さくした正方形のパターンを描画するようになしてある。このような正方形パターンを設計値に基づいた所定の間隔を隔てて2つ併置し、1図形における複数の正方形パターン間の間隔P2 は0.05, 0.1, 0.2μm と可変である。またショット間の間隔P1 も可変である。ビーム電流は500pA、ドーズ量は70μC/cm2 である。ビームスポット径は 0.015μm である。

請求項（抜粋）：

その軸断面の強度分布がガウス型をなすビームを走査して基板上に回路パターンを描画する場合に発生する近接効果を補正する方法において、前記ビームのスポット照射間隔を主走査方向と副走査方向とで各別に制御することを特徴とする近接効果の補正方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 521