特許
J-GLOBAL ID:200903015426486400
特に合成中間体として使用することができるハロゲン化モノオルガノキシシランの製造法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (5件):
倉内 基弘
, 風間 弘志
, 遠藤 朱砂
, 吉田 匠
, 中島 拓
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-530712
公開番号(公開出願番号):特表2005-503440
出願日: 2002年09月10日
公開日(公表日): 2005年02月03日
要約:
本発明は、有機化学において合成中間体として有用である式(I)のハロゲン化モノオルガノキシシランの製造法に関する。このモノオルガノキシシランの製造法は、出発化合物として、(CH3)2SiCl2タイプのハロゲノアルキルシランを使用し、そしてその珪素原子を、少なくとも適当な求核性物質と反応して式(II)(例えば、R1=C1〜C4アルキル、R2、R3=C1〜C6アルキル、B=C1〜C10アルキレン、m=1又は2、Hal=ハロゲン、W=アミノ、メルカプト、(オルガノシリル)-オルガノポリチオ基)の官能化モノオルガノキシシランを形成することができる求核性反応性基に結合された二価単位を有する基で置換することよりなる。
請求項(抜粋):
式:
IPC (1件):
FI (2件):
Fターム (9件):
4H049VN01
, 4H049VP01
, 4H049VP02
, 4H049VQ12
, 4H049VQ49
, 4H049VR23
, 4H049VR41
, 4H049VS12
, 4H049VW02
引用特許:
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