特許

J-GLOBAL ID：200903015427816985

露光用マスク、マスク収納容器、及び露光用マスク識別装置

発明者： 小嶋 邦博
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 喜三郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-186438
公開番号（公開出願番号）：特開平7-043893
出願日： 1993年07月28日
公開日（公表日）： 1995年02月14日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】半導体製造などに使用される露光用マスク、露光用マスク収納容器、及び露光用マスク、またはマスク収納容器の識別装置に関する。層状に配列されたマスク、またはマスク収納容器の識別処理を、識別動作が早く、しかも簡単な機構で実現する。【構成】半導体製造、表示体製造等に使用される露光用マスク、またはマスク収納容器おいて、マスク、またはマスク収納容器の側面部4に、露光パターン面と垂直方向にコード5が配列された標識を付ける。また、前記マスク、またはマスク収納容器が層状に配置されるマスク、またはマスク収納容器の収納部が有り、マスクのパターン面と相対的に垂直方向に標識識別機構を走査させる機構を有することを特徴とするマスク、またはマスク収納容器の識別装置。

請求項（抜粋）：

半導体製造、表示体製造等に使用される露光用マスク、または露光用マスク収納容器において、マスク、またはマスク収納容器の側面部に、露光パターン面と垂直方向にコードが配列された標識を付けたことを特徴とする露光用マスク、またはマスク収納容器。

IPC (3件)：

G03F 1/14 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/68

FI (3件)：

H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 502 G ,  H01L 21/30 502 J