特許
J-GLOBAL ID：200903015444752435
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-031791
公開番号（公開出願番号）：特開平5-230661
出願日： 1992年02月19日
公開日（公表日）： 1993年09月07日
要約：
【要約】【目的】直流電源を大容量にすることなく、ECR点の位置の制御を行うことのできるプラズマ処理装置を提供する。【構成】励磁コイル2,3の外周部および外周部に接続して内周部の一部にそれぞれ外ヨーク4および内ヨーク5を配置したものである。
請求項（抜粋）：
プラズマ生成室に反応ガス及びマイクロ波を導入すると共に、プラズマ生成室の周囲に配設された励磁コイルに直流電源を供給して磁界を印加し、電子サイクロトロン共鳴励起によりプラズマを生成させるプラズマ処理装置において、前記プラズマ生成室内の磁束をある領域内に封じ込めるために、励磁コイルの外周部に接続して内周部の一部に磁性体を設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (6件)：
C23C 16/50
, C23F 4/00
, G01N 24/14
, G01R 33/64
, H05H 1/30
, H01L 21/31
