高圧ガス充填装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人高橋特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-055886
公開番号（公開出願番号）：特開2007-232117
出願日： 2006年03月02日
公開日（公表日）： 2007年09月13日
要約：

【課題】小型で安全で安価な高圧ガス充填装置を提供する。【解決手段】ハウジング(5)内に設けた圧縮手段(6)をハウジング(5)外に設けた改質手段(3)に接続し、圧縮手段(6)を蓄圧手段(8)に接続し、蓄圧手段(8)に接続された流路管(10)に流量計(12)を介装し、ハウジング(5)外へ導出した流路管(10)に充填ホース(14)を接続し、充填ホース(14)の先端に充填ノズル(15)を設け、そして、流量計(12)の流量信号を受けて充填量を演算し、演算した充填量を表示器(19)に表示する制御手段(18)を設けている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ハウジング内に設けた圧縮手段をハウジング外に設けた改質手段に接続し、圧縮手段を蓄圧手段に接続し、蓄圧手段に接続された流路管に流量計を介装し、ハウジング外へ導出した流路管に充填ホースを接続し、充填ホースの先端に充填ノズルを設け、そして、流量計の流量信号を受けて充填量を演算し、演算した充填量を表示器に表示する制御手段を設けたことを特徴とする高圧ガス充填装置。

IPC (1件)：

F17C 5/06

FI (1件)：

F17C5/06

Fターム (3件)：

3E072AA01 , 3E072DA05 , 3E072GA30

引用特許：

出願人引用 (1件)

ガス充填装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-398882 出願人：株式会社タツノ・メカトロニクス

審査官引用 (4件)

ガス充填装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-033777 出願人：株式会社タツノ・メカトロニクス
特開昭61-258959
水素充填装置及びその制御方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-090374 出願人：東京瓦斯株式会社, 東京ガスケミカル株式会社

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