特許

J-GLOBAL ID：200903015450651055

レチクルパターン検査方法

発明者： 徳丸 裕一
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-258593
公開番号（公開出願番号）：特開平10-104820
出願日： 1996年09月30日
公開日（公表日）： 1998年04月24日
要約：

【要約】【課題】 レチクルの表面で画像センサの視野範囲に取り込んだレチクルパターンと記録媒体に格納された検査パターンを比較するレチクルパターン検査方法に関し、レチクルパターンと検査パターンの間の位置ずれを補正することを目的とする。【解決手段】 レチクル2の表面で該視野範囲より大きな面積を有するレチクルパターン未形成領域13にあらかじめ位置ずれ補正パターン14を形成するととともに、該記録媒体に該位置ずれ補正パターン14と対応した位置ずれ検査パターンを格納しておき、該画像センサの視野範囲に該位置ずれ補正パターン14が取り込まれたとき、該記録媒体から対応する位置ずれ検査パターンを読み出して比較し、その結果に基づいてレチクルパターンと検査パターンの位置ずれを補正するように構成する。

請求項（抜粋）：

レチクル表面を画像センサで走査し該画像センサの視野範囲にレチクルパターンを取り込むとともに該画像センサの走査位置を検出し、検出された走査位置に基づいて記憶媒体から検査パターンを読み出し、該レチクルパターンと該検査パターンを比較するレチクルパターン検査方法において、該レチクル表面で該視野範囲より大きな面積を有するレチクルパターン未形成領域にあらかじめ位置ずれ補正パターンを形成するとともに、該記録媒体に該位置ずれ補正パターンと対応した位置ずれ検査パターンを格納しておき、該画像センサの視野範囲に該位置ずれ補正パターンが取り込まれたとき、該記録媒体から対応する位置ずれ検査パターンを読み出して比較し、その結果に基づいてレチクルパターンと検査パターンの位置ずれを補正することを特徴とするレチクルパターン検査方法。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/66

FI (3件)：

G03F 1/08 S ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/30 502 V