特許

J-GLOBAL ID：200903015464172605

レーザービーム測定装置

発明者： 春山 弘司
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 日比谷 征彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-277102
公開番号（公開出願番号）：特開平10-104542
出願日： 1996年09月27日
公開日（公表日）： 1998年04月24日
要約：

【要約】【目的】 回転多面鏡を回転させた状態でレーザービームを感光ドラム面上で実画像に近い像として測定する。【構成】 合焦位置を含む移動範囲内にコリメータレンズ11を移動しながら、測定部15によりそのコリメータレンズ11の位置に対するレーザービームの強度分布を求め、レーザービームの主走査方向のビーム径を測定し、ビーム径が最も小さくなった位置を合焦位置とし、移動機構16により測定部15を適当に移動させながら、主走査方向の合焦位置の変化を測定する。回転多面鏡13の回転時には、レーザービーム射出部10の発行時間を1画素を形成するために必要な分静止時より長くして、レーザービームを実画像に近い像として測定する。

請求項（抜粋）：

回転多面鏡の回転走査に同期してレーザービームをパルス点灯するレーザー出射部と、円筒形の感光ドラム面上での結像性能を決める光学系を移動する駆動部と、前記感光ドラム表面の結像相当位置に配置しレーザービームの結像状態を前記感光ドラムの母線相当方向に沿って測定する測定部と、前記回転多面鏡により走査するレーザービームの走査タイミングを検出する走査タイミング検出部とを有し、前記回転多面鏡を回転しながら前記測定部でレーザービームを測定する際に、像形成のために必要な時間発光させた状態でレーザービームの測定を行うことを特徴とするレーザービーム測定装置。

IPC (3件)：

G02B 26/10 ,  G01J 1/02 ,  G01J 1/04

FI (3件)：

G02B 26/10 Z ,  G01J 1/02 L ,  G01J 1/04 D