特許

J-GLOBAL ID：200903015465892610

光導波路の製造方法

発明者： 井本 克之
出願人/特許権者： 日立電線株式会社
代理人 (1件)： 松本 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-199771
公開番号（公開出願番号）：特開平8-062445
出願日： 1994年08月24日
公開日（公表日）： 1996年03月08日
要約：

【要約】【目的】フォトリソグラフィ工程を用いない簡易な方法で、単時間に低コストで製造する。【構成】まず、石英ガラス基板上にCO2 レーザービームを照射し、石英ガラス基板をCO2 レーザビームに対して相対移動させることによって、石英ガラス基板上面にコアパターン溝を加工する。次に、コアパターン溝内に石英ガラス基板よりも高屈折率のコア膜を埋め込む。そして、高屈折率のコア膜を埋め込んだ石英ガラス基板の上面全体をコア膜よりも低屈折率のクラッド膜で覆う。これにより、従来必要であった、メタル膜形成工程、フォトリソグラフィ工程、メタル膜パターニング工程、コア層ドライエッチング工程、メタル膜剥離工程の全てを省略することができる。

請求項（抜粋）：

石英ガラス基板上にCO2 レーザービームを照射し、上記石英ガラス基板をCO2 レーザビームに対して相対移動させることによって、上記石英ガラス基板上面にコアパターン溝を加工する工程と、該コアパターン溝内に上記石英ガラス基板よりも高屈折率のコア膜を埋め込む工程と、該高屈折率のコア膜を埋め込んだ石英ガラス基板の上面全体を上記コア膜よりも低屈折率のクラッド膜で覆う工程とを備えた光導波路の製造方法。

IPC (3件)：

G02B 6/13 ,  C03C 17/02 ,  G02B 6/12

FI (2件)：

G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 N