特許
J-GLOBAL ID:200903015470623139

吸着ディスクフィルタを用いてガスを処理する装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 青山 葆 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-537635
公開番号(公開出願番号):特表2002-507477
出願日: 1999年03月22日
公開日(公表日): 2002年03月12日
要約:
【要約】【課題】 簡単な方法で連続的に操作して再生することができ、高効率を供給する。【解決手段】 装置は、少なくとも1つのロータリフィルタを有する。ロータリフィルタは、活性炭繊維からなる吸着フィルタエレメント(20)と、処理すべきガス流れをフィルタエレメントに引き渡す手段(12)と、フィルタの回転通路の第1部分に相当する吸収ゾーンを介してフィルタエレメントを通過したガス流れを取り上げる第1ガス出口(14)と、フィルタの回転通路の第2部分に相当する脱着ゾーンを通過したガス流れを取り上げる第2ガス出口(16)と、再生ゾーンに位置するフィルタエレメントの小部分に電気を供給して、ジュール効果によって前記フィルタエレメントの小部分を加熱し再生する手段(62,64)とを有する。フィルタエレメントは、フィルタの回転軸の周りに波形の円筒面を描くことが有利である。
請求項(抜粋):
活性炭繊維からなる吸着フィルタエレメント(20)と、 処理すべきガス流れを前記フィルタエレメントに引き渡す手段(12)と、 前記フィルタの回転通路の第1部分に相当する吸収ゾーンを介して前記フィルタエレメントを通過したガス流れを取り上げる第1ガス出口(14)と、 前記第1部分とは異なる前記フィルタの回転通路の第2部分に相当する脱着ゾーンにフィルタエレメントを再生する再生手段と、 前記脱着ゾーンを介してフィルタエレメントを通過したガス流れを取り上げる第2ガス出口(16;72)とからなるガス処理装置において、 前記フィルタエレメントは、フィルタの回転軸の周りに円筒面を描く活性炭クロス(20)の少なくとも1つの層によって形成され、 前記処理すべきガス流れを引き渡す手段は、フィルタエレメント(20)の一方の側に位置する容積部に開口する一方、第1ガス出口(14)はフィルタエレメントの他方の側に位置する容積部に開口し、 前記再生手段は、前記再生ゾーンに位置するフィルタエレメントの小部分に電気を供給して、ジュール効果によって前記フィルタエレメントの小部分を加熱する手段(66)を有することを特徴とするガス処理装置。
Fターム (6件):
4D012CA10 ,  4D012CA11 ,  4D012CA12 ,  4D012CC04 ,  4D012CD05 ,  4D012CG04

前のページに戻る