特許
J-GLOBAL ID：200903015478312825

多孔性酸化チタン薄膜被覆フィルムの形成方法

発明者：
山田 泰美

山田 泰美 について


出願人/特許権者：
凸版印刷株式会社

凸版印刷株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-042740
公開番号（公開出願番号）：特開2003-239064
出願日： 2002年02月20日
公開日（公表日）： 2003年08月27日
要約：
【要約】【課題】本発明の目的は、PVD法により高温を印可できない耐熱性の低いポリマーフィルム上に、生産性の高い連続成膜が可能な、制御された多孔性を有する酸化チタン薄膜被覆フィルムの形成方法を提供することにある。【解決手段】ポリマーフィルム基材を巻き取る巻取装置を備え、その基材の下方に設置された蒸発源から金属チタンあるいは酸化チタンを蒸発させ、同時にラジカルビーム発生源及びイオンビーム発生源から酸素ラジカルおよび希ガスイオンを照射し、前記基材上で酸化チタン薄膜を形成することを特徴とする多孔性酸化チタン薄膜被覆フィルムの形成方法である。
請求項（抜粋）：
ポリマーフィルム基材を巻き取る巻取装置を備え、その基材の下方に設置された蒸発源から金属チタンあるいは酸化チタンを蒸発させ、同時にラジカルビーム発生源及びイオンビーム発生源から酸素ラジカルおよび希ガスイオンを照射し、前記基材上で酸化チタン薄膜を形成することを特徴とする多孔性酸化チタン薄膜被覆フィルムの形成方法。
IPC (6件)：
C23C 14/08 ,  B01J 35/02 ,  B01J 37/02 301 ,  B32B 5/18 ,  B32B 9/00 ,  C01G 23/04
FI (6件)：
C23C 14/08 E ,  B01J 35/02 J ,  B01J 37/02 301 P ,  B32B 5/18 ,  B32B 9/00 A ,  C01G 23/04 C
Fターム (34件)：
4F100AA21B ,  4F100AA36 ,  4F100AK01A ,  4F100AK42 ,  4F100BA02 ,  4F100DJ01B ,  4F100EH662 ,  4F100EJ522 ,  4F100GB90 ,  4F100JM02B ,  4G047CA02 ,  4G047CB04 ,  4G047CC03 ,  4G047CD02 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069DA05 ,  4G069EA08 ,  4G069FA01 ,  4G069FA03 ,  4G069FB02 ,  4G069FB03 ,  4G069FC06 ,  4K029AA11 ,  4K029AA25 ,  4K029BA48 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029CA09 ,  4K029EA09
引用特許：
審査官引用 (2件)
  • 特開平4-358058
  • 光触媒膜の形成方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-104914   出願人：シャープ株式会社, 大阪府, シービーシーイングス株式会社

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