特許
J-GLOBAL ID：200903015495759906

エトキシエトキシスチレン用重合禁止剤及びそれを用いた蒸留方法

発明者：
天満 浩章

天満 浩章 について

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石川 真一

石川 真一 について

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江口 久雄

江口 久雄 について


出願人/特許権者：
東ソー株式会社

東ソー株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-383135
公開番号（公開出願番号）：特開2002-179605
出願日： 2000年12月12日
公開日（公表日）： 2002年06月26日
要約：
【要約】【課題】従来の問題点を解決し、エトキシエトキシスチレンの重合禁止能に優れたエトキシエトキシスチレン用重合禁止剤及びそれを用いた蒸留方法を提供する。【解決の手段】ハイドロキノン系化合物からなり、下記一般式(1)【化3】で表されるエトキシエトキシスチレン用重合禁止剤及びそれを用いた蒸留方法を用いる。
請求項（抜粋）：
ハイドロキノン系化合物からなり、下記一般式(1)【化1】で表されるエトキシエトキシスチレン用重合禁止剤。
IPC (6件)：
C07C 41/58 ,  B01D 3/00 ,  C07C 39/08 ,  C07C 43/303 ,  C08F 2/40 ,  C08F 12/22
FI (6件)：
C07C 41/58 ,  B01D 3/00 A ,  C07C 39/08 ,  C07C 43/303 ,  C08F 2/40 ,  C08F 12/22
Fターム (17件)：
4D076AA13 ,  4D076AA22 ,  4D076BB01 ,  4D076GA03 ,  4D076JA01 ,  4D076JA02 ,  4H006AA02 ,  4H006AA05 ,  4H006AD40 ,  4H006AD41 ,  4H006BA50 ,  4H006BA94 ,  4H006FC74 ,  4H006FE11 ,  4H006GP03 ,  4J011NA23 ,  4J011NB01
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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