特許

J-GLOBAL ID：200903015499893208

基板表面検査方法および該方法に用いる装置

発明者： 久米 聡 ,  園部 幸夫
出願人/特許権者： 株式会社アドバンスト・ディスプレイ
代理人 (1件)： 朝日奈 宗太 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-285793
公開番号（公開出願番号）：特開平9-127006
出願日： 1995年11月02日
公開日（公表日）： 1997年05月16日
要約：

【要約】【課題】 被検査基板の表面のみに結露させることができ、それにより被検査基板の表面以外の部分における汚染物質の蓄積および拡散を防止し、クリーンルーム内部での使用を可能ならしめる基板表面検査方法およびそれに用いられる装置を提供する。【解決手段】 観察ステージ2の通気孔2aを通して前記被検査基板1の裏面へ冷却された空気を吹き付けることにより、被検査基板1を観察ステージ2に対して非接触の状態に維持させるとともに被検査基板1の表面のみに選択的に結露させ、前記結露した被検査基板1の表面を観察することにより、当該表面の不均一な状態を検出することを特徴とする基板表面検査方法。

請求項（抜粋）：

(a)表面に通気孔が開口された観察ステージの上に、前記通気孔を被覆するように、被検査基板を載置し、(b)前記通気孔を通して前記被検査基板の裏面へ冷却された空気を吹き付けることにより、被検査基板を観察ステージに対して非接触の状態に維持させるとともに被検査基板の表面のみに選択的に結露させ、(c)前記結露した被検査基板の表面を観察することにより、当該表面の不均一な状態を検出することを特徴とする基板表面検査方法。