特許

J-GLOBAL ID：200903015509844944

積層型ブラックマトリックスおよびブラックマトリックスの形成方法

発明者： 斉藤 則之 ,  杉本 靖 ,  林 信行
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-320115
公開番号（公開出願番号）：特開平10-073717
出願日： 1996年11月29日
公開日（公表日）： 1998年03月17日
要約：

【要約】【目的】 薄膜かつ高光学純度のブラックマトリックスの作成を可能とする積層型ブラックマトリックスおよびブラックマトリックスの形成方法を提供する。【構成】 上層となる黒色感光性レジスト層と下層となる黒色非感光性材料層からなる積層型ブラックマトリックス、及び基板に前記積層型ブラックマトリックスを形成し、黒色感光性レジスト層をマスクパターンを通して露光し、必要に応じてレジスト層の現像・加熱処理を行い所定のパタ-ンを形成し、その所定のパタ-ンをマスクとして黒色非感光性材料層をエッチングし、ブラックマトリックスを形成する。

請求項（抜粋）：

上層となる黒色感光性レジスト層と下層となる黒色非感光性材料層からなる積層型ブラックマトリックス。

IPC (4件)：

G02B 5/20 101 ,  C23F 1/00 102 ,  G02B 5/00 ,  G03F 7/004 505

FI (4件)：

G02B 5/20 101 ,  C23F 1/00 102 ,  G02B 5/00 B ,  G03F 7/004 505