投影露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山川政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-199967
公開番号（公開出願番号）：特開平7-037798
出願日： 1993年07月20日
公開日（公表日）： 1995年02月07日
要約：

【要約】【目的】斜入射照明時の原図基板照明光学系の周辺部の収差および投影レンズによる光線の蹴られに起因する被露光基板上における露光フィールド周辺部の照度低下を防止し、照明の均一化を図る。【構成】第1照明光学系5と原図基板6との間に照度分布調整板40を配置し、これによって露光フィールド周辺部における光強度を大きくし、被露光基板10上の照度分布を均一化する。

請求項（抜粋）：

透過性基板上に遮光体もしくはハーフトーン遮光体により形成したパタンを有する原図基板を、中央部光強度が周辺部光強度より弱い2次光源により斜入射照明し、投影レンズを介して被露光基板上に前記原図基板上のパタンの光像を形成し、前記被露光基板上に付した感光性材料を前記パタン形状に露光し、感光させる投影露光装置において、照度分布調整板を設け、この調整板により被露光基板上の照度分布を均一化することを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 527 , H01L 21/30 515 D

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