特許
J-GLOBAL ID：200903015515945752
異物分析装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-095840
公開番号（公開出願番号）：特開平6-308039
出願日： 1993年04月22日
公開日（公表日）： 1994年11月04日
要約：
【要約】【目的】 表面に付着した、直径がハーフミクロン以下の極微小な異物の、形状観察及び組成分析手段を提供する。【構成】 レーザー干渉計23により位置の計測制御を行うXYステージ21の動作範囲内に、異物検査装置31と走査型電子顕微鏡41を備える。これにより、異物検査装置で検出した微小異物を電子顕微鏡の超高倍率視野内に追いこむことができる。よって、従来、困難でかつ長時間を要した極微小な異物の観察が、容易かつ短時間で行える。
請求項（抜粋）：
レーザー干渉計により位置の計測と制御を行うXYステージと、前記ステージの動作範囲内に、異物を検出し座標を特定する異物検査装置と、異物を観察し分析する電子顕微鏡を具備し、前記異物検査装置で検出した異物座標をもとに前記ステージにより異物を前記電子顕微鏡の視野内に移動し、異物の観察分析を行うことを特徴とする異物分析装置。
IPC (3件)：
G01N 21/88
, H01J 37/02
, H01L 21/66
