特許

J-GLOBAL ID：200903015520580762

ポリエチレン微多孔膜およびその製造方法

発明者： 橋本 暁直 ,  八木 和雄
出願人/特許権者： 三井化学株式会社
代理人 (1件)： 庄子 幸男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-214861
公開番号（公開出願番号）：特開平11-060790
出願日： 1997年08月08日
公開日（公表日）： 1999年03月05日
要約：

【要約】【課題】 機械的強度の要求される用途に適用される、極薄、かつ低空孔率で高強度のポリエチレン微多孔膜およびその製造方法を提供する。【解決手段】 極限粘度[η]が3dl/g以上のポリエチレンからなり、厚さが1ないし25μm、引張強度が1000kg/cm2 以上、空孔率が5%以上30%未満であるポリエチレン微多孔膜。この微多孔膜は、透気度が100ないし2000sec/100ml、および弾性率が3000kg/cm2 以上であることがより好ましい。この微多孔膜は、原料ポリマーと、固体の炭化水素系可塑剤からなる混合物を溶融混練し、さらに冷却固化して原反シートを作成し、原反シートから該炭化水素系可塑剤を実質的に残存しない状態に抽出除去処理した後、該シートを100°Cないしポリエチレンの融点未満の温度で縦横方向ともに2倍以上に二軸延伸することによって得ることができる。

請求項（抜粋）：

極限粘度[η]が3dl/g以上のポリエチレンからなり、厚さが1ないし25μm、引張強度が1000kg/cm2 以上、空孔率が5%以上30%未満であるポリエチレン微多孔膜。

IPC (12件)：

C08J 9/26 102 ,  C08J 9/26 CES ,  B01D 39/16 ,  B01D 71/26 ,  B29C 55/12 ,  C08K 5/01 ,  C08L 23/06 ,  H01M 2/16 ,  B29K 23:00 ,  B29K105:04 ,  B29L 7:00 ,  B29L 31:34

FI (8件)：

C08J 9/26 102 ,  C08J 9/26 CES ,  B01D 39/16 Z ,  B01D 71/26 ,  B29C 55/12 ,  C08K 5/01 ,  C08L 23/06 ,  H01M 2/16 P