特許

J-GLOBAL ID：200903015537917523

硬化皮膜の形成方法

発明者： 有島 真史 ,  塩野 輝雄
出願人/特許権者： 東洋インキ製造株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-246141
公開番号（公開出願番号）：特開2000-072982
出願日： 1998年08月31日
公開日（公表日）： 2000年03月07日
要約：

【要約】【課題】500ppm以上の高酸素濃度下においても、電子線照射により高い表面硬化性を示し、高い硬度の塗膜を与える硬化皮膜の形成方法の提供。【解決手段】2〜6個の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレート化合物および1〜6個のビニルエーテル基を有するビニルエーテル化合物を含む硬化性組成物に、500ppm以上の酸素濃度下において電子線を照射する硬化皮膜の形成方法。

請求項（抜粋）：

2〜6個の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレート化合物および1〜6個のビニルエーテル基を有するビニルエーテル化合物を含む硬化性組成物に、500ppm以上の酸素濃度下において電子線を照射する硬化皮膜の形成方法。

IPC (3件)：

C09D 4/00 ,  C09D 5/00 ,  C09D 11/00

FI (3件)：

C09D 4/00 ,  C09D 5/00 C ,  C09D 11/00

Fターム (13件)：

4J038FA011 ,  4J038FA012 ,  4J038FA081 ,  4J038FA251 ,  4J038FA281 ,  4J038GA01 ,  4J038PA17 ,  4J039AD10 ,  4J039BC12 ,  4J039BE33 ,  4J039EA05 ,  4J039EA36 ,  4J039EA48