特許
J-GLOBAL ID:200903015539923440
支持された触媒成分、支持された触媒、製造法、重合法、錯体化合物、及びその製造法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
斉藤 武彦 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-527670
公開番号(公開出願番号):特表平11-503113
出願日: 1996年03月04日
公開日(公表日): 1999年03月23日
要約:
【要約】(a)支持体物質、有機金属化合物、及び(b)b.1)遷移金属化合物と反応して触媒的に活性な遷移金属錯体を形成しうるカチオン、及びb.2)100以下の非水素原子をもち且つ活性水素部分をもつ少なくとも1の置換基を含有する相容性アニオンからなる活性化剤化合物、からなることを特徴とする支持された触媒成分;支持された触媒成分と遷移金属化合物とからなる支持された触媒;その製造方法;支持された触媒を使用する付加重合法;錯体化合物及びその製造法。
請求項(抜粋):
(a)支持体物質、元素の周期律表の2〜13族、ゲルマニウム、錫及び鉛から選ばれる金属をもつ有機金属化合物、及び(b)b.1)遷移金属化合物と反応して触媒的に活性な遷移金属錯体を形成しうるカチオン、及びb.2)100以下の非水素原子をもち且つ活性水素部分をもつ少なくとも1の置換基を含有する相容性アニオンからなる活性化剤化合物、からなることを特徴とする支持された触媒成分。
IPC (5件):
C07F 7/28
, B01J 31/12
, C07F 7/00
, C08F 4/606
, C08F 10/00
FI (5件):
C07F 7/28 F
, B01J 31/12 Z
, C07F 7/00 A
, C08F 4/606
, C08F 10/00
引用特許:
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